Terug naar de kennisbank

Beheersing binnen- klimaat elektronische werkplaats

Interesse?

Download dan direct de PDF of lees eerst het beknopte overzicht.

Een werkplaats waar chips worden vervaardigd is een voorbeeld van een ruimte waarin de hoogste eisen aan de luchtzuiverheid wordt gesteld. Deze ruimten worden uitgevoerd als een cleanroom. Voor silicone microcircuit chips geldt dat elk contact met een  stofdeeltje leidt tot een verstoring of kortsluiting in het  elektrocircuit, waardoor de microchip zijn functie verliest.  Daarom is het beheersen van de micro verontreinigingen van het binnenmilieu in de cleanroom waar chips worden vervaardigd het belangrijkste aspect. De verontreinigingskarakteristieken in een dergelijke werkplaats zijn in detail geanalyseerd en de  resultaten van praktijkmetingen die zijn verricht in Zuid China zullen worden behandeld. Uit het onderzoek blijkt dat 80 % van de verontreinigingsbronnen afkomstig is van het personeel in de cleanroom, 15 % van het airconditioningsysteem en 5 % van de bouwmaterialen. Het aantal stofdeeltjes neemt duidelijk toe wanneer het personeel de ruimte inen uitloopt. Ook neemt de binnenluchtkwaliteit sterk af bij toenemende bewegingen van het personeel. De juiste binnenluchtcondities, zoals een relatieve luchtvochtigheid van 50 % 60 %, een temperatuur van  19 C  25 C en een overdruk > 5 Pa zorgen er mede voor dat de kwaliteit van de microchips kan worden gegarandeerd.

China wordt meer en meer een land met n van de grootste elektronische productiefabrieken in de wereld, steeds meer bewerkstelligt de milieubeschermingsdruk de herkenning van scholars, zoals landen watervervuiling veroorzaakt door elektronische verspilling. Daarnaast kan de impact van binnenluchtveront *  Guangdong University of Technology (GDUT), Faculty of construction, China,  **  Hunan University College of civil  engineering, China,  *** ZhuZhou Institute of Technology, Department of Civil Engineering, China  Vertaling van Pollution characteristic and control of an electronic workshop, door  ir.

Auteur(s): Li Zhi-Seng , Zhang Guo-Qiang, Liu Jian-Long, Li Dongmei en Mei Sheng

Lees meer in de PDF